思锐智能科创板IPO已受理 原子层沉积设备在化合物半导体领域的市场占有率排名全球第三

智通财经APP获悉，11月10日，青岛思锐智能科技股份有限公司(简称：思锐智能)上交所科创板IPO审核状态变更为“已受理”。国泰海通证券为其保荐机构，拟募资20亿元。

据招股书，思锐智能是一家总部位于中国，以中国和芬兰两地作为研发制造中心，服务全球客户的半导体设备公司。公司主要从事应用于集成电路、功率器件、科研及显示器件等领域的原子层沉积设备和离子注入设备的研发、生产和销售，并提供备品备件和相关技术服务。

经过多年的自主研发和技术积累，公司掌握了原子层沉积设备和离子注入设备的关键核心技术。公司是国内极少数在原子层沉积设备领域实现全球化布局并具有全球知名度的设备制造商，也是国内极少数实现离子注入设备研发制造及产业化应用的设备制造商。

全球原子层沉积设备市场中先晶半导体、东京电子、泛林半导体等国际巨头企业占据主导地位，根据QYResearch统计数据，2025年前述三家国际巨头企业在全球原子层沉积设备市场占有率合计达到58.15%。国内原子层沉积设备企业起步较晚，目前业务主要聚焦于境内市场，整体经营规模与国际巨头企业相比仍存在一定差距。

公司的原子层沉积设备广泛应用于化合物半导体、显示器件、科研等领域，并逐步向硅基半导体领域拓展，在原子层沉积设备领域实现全球研发制造布局且具有全球知名度。根据QYResearch统计数据，2025年公司原子层沉积设备在化合物半导体领域的市场占有率排名全球第三、国产厂商第一，在显示器件领域和科研领域的市场占有率均排名全球第一。公司原子层沉积设备拥有较强的市场地位，细分市场占有率全球领先。

全球离子注入设备市场中应用材料、亚舍立等国际巨头企业占据主导地位，根据QYResearch统计数据，2025年上述企业在国际离子注入设备市场占有率合计达82.25%。国内离子注入设备市场长期由国际巨头企业垄断，国产设备的市场占有率合计不到6%。

公司是国内极少数为集成电路先进制程制造产线提供离子注入设备的半导体设备制造商。公司离子注入设备首先聚焦技术难度最高的高能离子注入设备并取得突破，相关产品已应用于国内先进存储制造产线。在高能离子注入设备研发成功的基础上，公司同步开展大束流、中束流、氢离子、SiC等离子注入设备研发，形成了丰富的离子注入设备产品体系。截至报告期末，公司高能离子注入设备已通过客户O、客户Q验收，并有13台离子注入设备分别在客户O、客户P、客户V、客户R等客户产线进行验证。

财务方面，于2023年度、2024年度、2025年度、2026年1-6月，公司实现营业收入分别约3.49亿元、3.63亿元、4.95亿元、1.90亿元;同期，净利润分别约-3.04亿元、-2.71亿元、-2.67亿元、-2.31亿元。