天合光能获得实用新型专利授权：“硅片衬底和异质结电池”

证券之星消息，根据企查查数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“硅片衬底和异质结电池”，专利申请号为CN202522291505.4，授权日为2026年10月16日。

专利摘要：本申请涉及太阳能电池技术领域，尤其涉及一种硅片衬底和异质结电池。本申请的硅片衬底，硅片衬底包括相对设置的正面和背面，正面和背面之间围绕有侧面；其中，背面包括边缘环绕区域，背面的其余区域为中心区域；边缘环绕区域为绒面结构，中心区域为抛光面；正面均为绒面结构。本申请的硅片衬底可以使得边缘区绕镀物厚度更小，使得正背面薄膜的绝缘隔离，中心区负责光学反射和钝化改善，该硅片衬底兼具“防止漏电”和“增强内反射”，“改善钝化”的特性，实现了电学性能和光学性能的协同优化。

今年以来天合光能新获得专利授权374个，较去年同期减少了23.98%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了10.21亿元，同比增13.44%。

通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目7281次；财产线索方面有商标信息1087条，专利信息4876条，著作权信息131条；此外企业还拥有行政许可47个。

数据来源：企查查

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