国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程

证券之星消息，国林科技(300786)07月30日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：公司的高纯臭氧发生器是否支持HfO₂、Al₂O₃、ZrO₂、TiO₂、IGZO等先进半导体氧化物的薄膜制备？
国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站（https://www.guolinsemi.com/）或定期报告进行了解。感谢您对的关注。

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