中微公司获得发明专利授权：“多腔等离子体处理装置及减少腔室间发射光谱干扰的方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“多腔等离子体处理装置及减少腔室间发射光谱干扰的方法”，专利申请号为CN202310674246.6，授权日为2025年10月14日。

专利摘要：本发明公开了一种多腔等离子体处理装置及减少腔室间发射光谱干扰的方法。其中，该装置包括：多个处理腔，每一所述处理腔包括设置于腔内的用于承载晶圆的基座、用于引入反应气体的气体注入装置以及用于判断所述处理腔内工艺终点的光谱检测装置，并且多个所述处理腔与多个第二管路对应连通；一压力检测装置，其通过第一管路与多个所述第二管路连通以检测多个所述处理腔内的压力，且每一第二管路上均设置有阀门；控制器，用于接收所述光谱检测装置的工艺终点信号，并根据所述工艺终点信号控制所述光谱检测装置所在腔室对应的阀门断开。本发明能够改善多腔之间的气压串扰，减少发射光谱强度的偏移。

今年以来中微公司新获得专利授权129个，较去年同期增加了40.22%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了11.16亿元，同比增96.65%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目67次；财产线索方面有商标信息98条，专利信息1538条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可76个。

数据来源：天眼查APP

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